地特四等申論題
110年
[化學工程] 工業化學概要
第 二 題
二、光阻劑是積體電路中微影製程的關鍵材料，其主要組成成分為何？光阻劑又可分為正型光阻劑和負型光阻劑，請問其差異為何？（25 分）
📝 此題為申論題
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看到此題，應先聯想微影製程中光阻劑的作用原理。作答分為兩部分：第一部分列出光阻的三大核心成分（樹脂、感光劑、溶劑）及添加劑；第二部分則利用對比法，從曝光後化學反應（斷鍵 vs. 交聯）、顯影後溶解度（曝光區溶解 vs. 未曝光區溶解）及工業應用特性（解析度高低）三個維度，條列式說明正型與負型光阻劑的差異。
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【破題】 光阻劑（Photoresist）為積體電路（IC）微影製程中進行圖案轉移之核心感光材料，藉由照光後溶解度的變化達成微米甚至奈米級的圖案微縮。 【論述】
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