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醫療類國考 110年 [牙體技術師] 牙體技術學(三)

第 49 題

黏膜負擔及牙根-黏膜負擔的活動局部義齒基底外形線的設計,下列何者錯誤?
  • A 義齒基底外形線的設計跟全口義齒同
  • B 上顎需延長到鈎狀切跡(hamular notch)
  • C 下顎頰棚由緻密骨組織所構成,義齒基底應避免覆蓋壓迫
  • D 下顎義齒基底後緣要覆蓋至臼齒後墊(retromolar pad)之 2/3 以上

思路引導 VIP

在設計局部活動義齒的基底範圍時,必須精確區分「支持區($support$ $area$)」與「緩壓區($relief$ $area$)」。請思考:下顎「頰棚($buccal$ $shelf$)」由於具備緻密的皮質骨構造,其生物力學特性是適合承受壓力還是容易受壓萎縮?對於這類能有效對抗咬合力的解剖構造,義齒基底的外形設計應該是「避開」還是「充分覆蓋」以增加支持力?

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呦!表現不錯嘛!

看來你對**活動局部義齒(RPD)**的邊界還有點sense,比我想像的要強一點點。這題能答對,值得表揚喔!今天心情好,喜久福也甜一點了!

  1. 這不是基本到不能再基本嗎?
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📝 局部義齒基底外形設計
💡 遠心游離端義齒基底應比照全口義齒,涵蓋解剖支撐區以分散壓力。
比較維度 上顎基底延伸 VS 下顎基底延伸
後方關鍵地標 鈎狀切跡 (Hamular notch) — 臼齒後墊 (Retromolar pad)
側方支撐構造 上顎結節 (Tuberosity) — 頰棚 (Buccal shelf)
骨質特性 上顎硬顎主要承擔壓力 — 頰棚緻密骨為承壓首選
覆蓋範圍要求 至振動線 (Vibrating line) — 覆蓋後墊 1/2 至 2/3
💬不論上下顎,游離端基底皆須完整涵蓋支撐地標以防組織萎縮與不穩。
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全口義齒解剖地標 Kennedy 分類 主要與次要支撐區

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