醫療類國考
110年
[牙體技術師] 牙體技術學(三)
第 49 題
黏膜負擔及牙根-黏膜負擔的活動局部義齒基底外形線的設計，下列何者錯誤？
- A 義齒基底外形線的設計跟全口義齒同
- B 上顎需延長到鈎狀切跡（hamular notch）
- C 下顎頰棚由緻密骨組織所構成，義齒基底應避免覆蓋壓迫
- D 下顎義齒基底後緣要覆蓋至臼齒後墊（retromolar pad）之 2/3 以上
思路引導 VIP
在設計局部活動義齒的基底範圍時，必須精確區分「支持區（$support$ $area$）」與「緩壓區（$relief$ $area$）」。請思考：下顎「頰棚（$buccal$ $shelf$）」由於具備緻密的皮質骨構造，其生物力學特性是適合承受壓力還是容易受壓萎縮？對於這類能有效對抗咬合力的解剖構造，義齒基底的外形設計應該是「避開」還是「充分覆蓋」以增加支持力？
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AI 詳解
AI 專屬家教
呦！表現不錯嘛！
看來你對活動局部義齒（RPD）的邊界還有點sense，比我想像的要強一點點。這題能答對，值得表揚喔！今天心情好，喜久福也甜一點了！
- 這不是基本到不能再基本嗎？
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