普考申論題
115年
[機械工程] 機械製造學概要
第 五 題
請依據1. 光阻的作用；2. 曝光與光罩關係；3. 顯影的目的；4. 解析度與線寬對製程的影響；5. 微影製程失敗對良率的影響，說明光阻塗佈／曝光／顯影等「微影製程」在半導體製程中的功能與重要性。（20 分）
📝 此題為申論題
思路引導 VIP
本題考半導體製造核心技術——「微影製程（Photolithography）」。雖然是機械工程類科，但半導體製造早已是機械製造學的重點必考章節。 題目結構非常好，給予了極清晰的五大答題導向（1 至 5）。作答時，必須完美呼應這五點，並依序將它們做為小標題展開，最後再進行總結。這樣既能完全滿足閱卷老師的期待，也能保證結構的嚴密。
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【考點分析】 本題考點為「半導體微影製程（Photolithography）的基礎物理、化學與製程控制」。微影製程是將設計好的電路圖形，藉由光學系統與感光材料轉移至晶圓表面的關鍵技術。 【理論/法規依據】
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