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第 3 題

According to the article, what is the specific function of a 'photomask'?
  • A To wash away the liquid chemicals from the wafer's surface.
  • B To generate the powerful UV light needed for the process.
  • C To act as a blueprint or stencil that guides where light hits the wafer.
  • D To protect the silicon wafer from being scratched during cleaning.

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文中明確指出光罩(photomask)就像一個高科技模板(stencil),包含了晶片電路的藍圖,用來控制 UV 光照射的位置。

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  2. 觀念驗證:為什麼 (C) 是正確的呢?
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