高考申論題
112年
[輻射安全] 輻射應用及其防護
第 五 題
五、請說明輻射在半導體工業方面之應用？（15分）
📝 此題為申論題
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看到此題，應立即聯想到半導體製程中的核心技術「離子佈植（Ion Implantation）」以及先進製程的「極紫外光微影（EUV）」，並擴展至封裝測試的X射線非破壞性檢測。作答時需依序說明物理原理、設備系統動線、製程優缺點，最後務必補充設備操作的輻射防護（如制動輻射屏蔽與連鎖機制），以符合本科目「應用與防護並重」的要求。
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【破題】 輻射技術在現代半導體工業中扮演著不可或缺的角色，涵蓋從晶圓製造前端的精準摻雜、奈米級微影曝光，到後端封裝的非破壞性檢測。其核心優勢在於能提供極高的精確度與非破壞性分析，但同時也需伴隨嚴格的游離輻射防護管制。 【論述】
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