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高考申論題 114年 [電子工程] 半導體工程

第 一 題

📖 題組:
一、(一)能帶理論中,那一個參數可作為區分導體、半導體與絕緣體的依據?(5 分) (二)該參數以何數值作為區分半導體與絕緣體的界限?(5 分) (三)請以能帶結構的角度說明導體、半導體與絕緣體之差異。(10 分)
📝 此題為申論題,共 3 小題

小題 (一)

能帶理論中,那一個參數可作為區分導體、半導體與絕緣體的依據?(5 分)

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看到此題,應立即聯想固態物理中能帶理論(Band Theory)決定材料導電性質的核心物理量。作答時直接點出「能隙(Bandgap, Eg)」即可,並簡要補充其物理意義以確保拿滿這 5 分。

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能帶理論中,作為區分導體、半導體與絕緣體依據的參數為「能隙」(Bandgap,或稱能隙寬度,符號為 $E_g$)。 能隙是指價帶頂(Valence Band Maximum, $E_v$)與導帶底(Conduction Band Minimum, $E_c$)之間的能量差($E_g = E_c - E_v$)。此參數決定了價電子是否能吸收足夠的熱能或光能躍遷至導帶成為自由載子,進而決定材料的導電特性。

小題 (二)

該參數以何數值作為區分半導體與絕緣體的界限?(5 分)

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看到此題,應立即聯想到「能隙(Bandgap, Eg)」的數值範圍。由於室溫下熱激發能量(kT)約為 26 meV,能隙大於 3~4 eV 的材料極難產生本質載子,故通常以此數值作為半導體與絕緣體的經驗界線。

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區分半導體與絕緣體的能隙界線數值大約落在 3 eV 至 4 eV 之間。 具體數值區分標準如下:

  1. 半導體(Semiconductor):能隙($E_g$)約介於 0.1 eV 至 4 eV 之間(例如矽 Si 為 1.12 eV,碳化矽 SiC 約為 3.3 eV)。在室溫下,可藉由熱激發或摻雜產生足夠的載子來導電。

小題 (三)

請以能帶結構的角度說明導體、半導體與絕緣體之差異。(10 分)

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看到此題,應立即聯想固態物理中的「能帶理論(Band Theory)」,核心考點為價帶(Valence Band)、導帶(Conduction Band)與能隙(Energy Gap, Eg)的關係。作答時需依序從能帶分佈、能隙大小及熱激發效應三個維度,比較三種材料的物理本質差異。

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【破題】 依據能帶理論,固態材料的導電性取決於價帶(Valence Band)、導帶(Conduction Band)的電子填滿狀態,以及兩者之間的能隙(Energy Gap, Eg)大小。 【論述】

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