110年高考申論題 — 材料分析

共 4 題 · 含 AI 詳解

第一題 一、空間解析度（spatial resolution）是成像技術重要規格，請分別對光學顯微鏡（OM），穿透式電子顯微鏡（TEM）及掃描式電子顯微鏡（SEM），論… › 第二題 二、以繞射理論為基礎，為何結晶體中有些平面族不會產生繞射？這個現象也可以從結構因子（structure factor）來求解，請先推導結構因子的數學式，再利用此… › 第三題 三、二次離子質譜儀（SIMS）與拉賽福背向散射分析儀（RBS）是兩個相似的成分分析技術，同樣以離子為入射源且以離子為接收訊號源，試申論在碰撞機制、結果呈現、提供… › 第四題 四、X-光光電子能譜儀（XPS）與歐傑電子能譜儀（AES）都是分析化學鍵結非常有用的技術，請先論述個別技術之原理，說明其結果呈現方式，再詳細說明這兩個技術之不同… ›