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高考申論題 113年 [化學工程] 材料化學(包括有機化學、無機化學)

第 一 題

📖 題組:
請寫出下列反應之反應機構:(每小題 10 分,共 40 分)
📝 此題為申論題,共 4 小題

小題 (一)

反應物:2-chloro-2,3-dimethylbutane + H2O, 加熱 → 2,3-dimethyl-2-butene

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這是一個溶劑分解並伴隨消除的反應。由於起始物是三級鹵烷,且在加熱下,會走 E1 路徑。首先形成碳正離子,隨後鹼(水)奪取質子形成最穩定的烯烴(Zaitsev 產物)。

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【考點分析】 E1 消除反應機制、碳正離子中間體。 【理論/法規依據】

小題 (二)

反應物:Benzonitrile (PhCN) + H2SO4(aq), 加熱 → Benzoic acid (PhCOOH)

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腈的酸催化水解。這是一個多步驟過程:腈 → 醯胺 → 羧酸。重點在於氮原子的質子化使碳更具親電性,隨後水分子的進攻。

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【考點分析】 腈類的水解機構、親核加成-消除。 【理論/法規依據】

小題 (三)

反應物:Benzene + dodecanoyl chloride + AlCl3 → dodecanophenone

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Friedel-Crafts 醯基化反應。路易斯酸 AlCl3 與醯氯反應生成醯基陽離子(acylium ion),隨後進行親電芳香取代。

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【考點分析】 Friedel-Crafts Acylation、親電芳香取代 (EAS)。 【理論/法規依據】

小題 (四)

反應物:Dodecanoic acid + SOCl2 → dodecanoyl chloride

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羧酸轉化為醯氯。SOCl2 是常用試劑,反應過程中會產生 SO2 與 HCl 氣體。機構涉及羧酸對硫原子的親核攻擊。

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【考點分析】 醯氯的製備、親核取代。 【理論/法規依據】

📝 E1 消除反應機制
💡 三級鹵烷於加熱中經碳正離子中間體,依 Zaitsev 規則行消除反應。

🔗 E1 反應機構步驟

  1. 1 離去基異裂 — C-X 鍵斷裂,生成三級碳正離子中間體。
  2. 2 弱鹼奪質子 — 水分子奪取質子,電子對回補至 C-C 鍵。
  3. 3 生成多取代烯 — 形成雙鍵,產生符合 Zaitsev 規則的產物。
🔄 延伸學習:延伸學習:考慮碳正離子是否會發生氫核或烷基位移(重排)。
🧠 記憶技巧:E1 兩步:一斷(離去基)、二拔(鄰位氫),熱力學穩定產物王。
⚠️ 常見陷阱:答題時漏畫碳正離子中間體,或產物未遵守 Zaitsev 規則選取最穩定烯烴。
SN1 反應競爭 碳正離子重排 Zaitsev 規則與 Hofmann 規則

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