地特三等申論題
108年
半導體工程
108年地特三等申論題 — 半導體工程
共 9 題 · 含 AI 詳解
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第一題
請回答下列問題:
(一)製作半導體元件時為何須選擇正確的 Si 晶圓結晶面與結晶方向?其對元件特性會有什麼影響?請舉例說明。(15 分)
(二)當太陽電池所在的…
2 小題
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第二題
有一金-半二極體(M-S diode),設半導體端內部之雜質濃度呈線性漸變(linearly graded),即 $N_D = ax$,其中 a 為製程參數,試…
2 小題
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第三題
請回答下列問題:
(一)在 MOS 元件中,其氧化層內或氧化層與 Si 的介面處通常都會存在某些缺陷電荷(defect charge),例如氧化陷阱電荷(oxi…
2 小題
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第四題
設有一理想的 Si MOS 電容,維持在 T= 300 K,其元件相關參數如下
1. 閘極材料為 p+多晶矽(其功函數ΦB=5.2 ev)
2. 基板為 n 型…
3 小題
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