統測
105年
[機械群] 專業科目(2)
第 2 題
有關半導體光學微影製程步驟：A 光阻曝光、B光阻塗佈、C光阻顯影，下列製程順序何者正確？
- A BCA
- B ABC
- C CAB
- D BAC
思路引導 VIP
想像你今天要在這片晶圓上「畫畫」。若想透過『光影投射』來留下痕跡，你會先將感光材料鋪好，還是先打開燈光投射？而當光線照射完成後，你應該採取什麼步驟才能讓原本看不見的影子，變成真正留下來的實體線條呢？
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太棒了！精準掌握了半導體的核心邏輯！
- 觀念驗證：微影製程（Lithography）的邏輯與「沖洗照片」非常相似：
- (B) 塗佈：先在晶圓表面塗上一層感光材料（光阻），建立「感光底片」。
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