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高考申論題 111年 [材料工程] 材料性質

第 一 題

📖 題組:
GaN 為一直接能隙半導體: (一)請分別說明能隙以及直接能隙的定義。(10 分) (二)請定義室溫下的 GaN、絕對零度時的金屬、室溫下的金屬,此三種材料的費米能階,並指出其在能帶圖中的位置。(15 分) (三) GaN 可用於製作藍光二極體,請說明發光二極體的發光機制。(5 分)
📝 此題為申論題,共 3 小題

小題 (一)

請分別說明能隙以及直接能隙的定義。(10 分)

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看到此題應立刻聯想固態物理中的「能帶理論」與「E-k 圖(能量-波向量圖)」。能隙定義需扣緊價帶與導帶間的能量差;而直接能隙則必須強調導帶底與價帶頂在動量空間(k 值)的對應關係,這是決定材料能否高效率發光的微觀物理機制。

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【破題】固態半導體的光電行為取決於其微觀能帶結構。能隙大小與躍遷路徑,直接決定了材料電子躍遷的能量變化與動量守恆條件。 【論述】 一、能隙 (Band Gap, $E_g$)

小題 (二)

請定義室溫下的 GaN、絕對零度時的金屬、室溫下的金屬,此三種材料的費米能階,並指出其在能帶圖中的位置。(15 分)

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解答本題需掌握費米-狄拉克分佈與材料能帶結構的關係。首先寫出費米能階的普適定義(電子佔據機率為 50% 的能階),接著根據半導體有能隙、金屬無能隙(或能帶重疊)的物理特徵,結合溫度效應(0K的基態分佈 vs. 室溫的熱激發平滑分佈)來分別定位其在能帶圖中的幾何位置。

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【破題】 費米能階(Fermi Energy Level, $E_F$)依據費米-狄拉克分佈,定義為熱力學平衡下,電子佔據該量子態機率恰為 50% 的能量位置。其在能帶圖中的幾何位置由材料的原子鍵結所形成的能帶結構與系統溫度共同決定。 【論述】

小題 (三)

GaN 可用於製作藍光二極體,請說明發光二極體的發光機制。(5 分)

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看到發光二極體(LED)發光機制,應直覺聯想到「PN接面」與「順向偏壓」。解題關鍵在於分步描述:載子注入 → 電子與電洞「復合(Recombination)」 → 能量釋放。並務必結合題幹「GaN 為直接能隙」,點出復合能量會以光子形式(Eg=hν)釋放,展現微觀電子躍遷與宏觀發光性質的連結。

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【破題】發光二極體(LED)的發光機制屬於「電致發光(Electroluminescence)」,主要基於 PN 接面在順向偏壓下的「輻射復合(Radiative Recombination)」效應。 【論述】 一、載子注入(Carrier Injection):

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