高考申論題
114年
[電子工程] 半導體工程
第 一 題
📖 題組:
二、(一)在半導體晶格中,載子具有那二種主要的傳輸機制?(4 分) (二)一個實際的矽 p-n 接面二極體在順偏導通狀態下,有那些電流成分?(8 分) (三)請說明各電流形成之機制。(8 分)
二、(一)在半導體晶格中,載子具有那二種主要的傳輸機制?(4 分) (二)一個實際的矽 p-n 接面二極體在順偏導通狀態下,有那些電流成分?(8 分) (三)請說明各電流形成之機制。(8 分)
📝 此題為申論題,共 3 小題
小題 (一)
在半導體晶格中,載子具有那二種主要的傳輸機制?(4 分)
思路引導 VIP
看到「載子傳輸機制」,應立即聯想到半導體總電流密度方程式。載子運動的兩大物理驅動力分別為「外加電場」與「濃度梯度」,由此即可精確點出漂移(Drift)與擴散(Diffusion)兩種核心機制。
小題 (二)
一個實際的矽 p-n 接面二極體在順偏導通狀態下,有那些電流成分?(8 分)
思路引導 VIP
看到「實際」二字是解題關鍵,絕不能只答理想二極體的擴散電流。考生應立刻聯想到空乏區內的產生-復合(Generation-Recombination)機制,寫出順偏狀態下的兩大核心電流:準中性區的「擴散電流」與空乏區的「復合電流」,並可適度補充高注入效應或表面漏電流以獲取高分。
小題 (三)
請說明各電流形成之機制。(8 分)
思路引導 VIP
看到本題,應先回想上一題指出的兩種實際電流成分:擴散電流與復合電流。作答時需緊扣「載子如何運動(注入與擴散)」以及「載子如何消失(空乏區內陷阱復合)」,並加上對應的驅動力(位障降低、濃度梯度)來完整闡述物理機制。