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高考申論題 109年 [材料工程] 材料分析

第 一 題

📖 題組:
X光光電子能譜儀 (XPS) 相關問題
📝 此題為申論題,共 2 小題

小題 (一)

X光光電子能譜儀(XPS)常用之光源與光電子訊號特徵為何?(15分)

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看到此題,應立即聯想XPS的核心物理機制——「光電效應」。答題需分兩層次:首先,說明激發源為何選用特定的軟X光(從能量解析度與線寬角度切入);其次,剖析收集到的光電子訊號,必須涵蓋深度(表面靈敏度)、定性(特徵結合能)、化學態(化學位移)及定量(波峰面積)等四大物理特徵。

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【破題】X光光電子能譜儀 (XPS) 係基於「光電效應」原理,利用已知能量之X射線游離固體表面原子之內層電子,藉由量測逸出光電子的動能以推算其結合能,為表面元素與化學態分析的頂級利器。 【論述】 一、XPS常用之光源

小題 (二)

以XPS進行矽晶體表面分析,如何從矽之訊號判斷是否有寄生氧化物(native oxide)生成?又如何從訊號特徵估計出氧化之狀況或程度?(10分)

思路引導 VIP

看到 XPS 分析表面化學狀態,直覺要聯想核心概念「化學位移 (Chemical Shift)」。首先說明純矽與氧化矽在 Si 2p 能譜上的結合能差異機制(屏蔽效應減弱);接著利用兩者訊號強度的比例,並引入電子的「非彈性平均自由徑 (IMFP)」概念,來說明如何推導氧化層厚度以評估氧化程度。

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【破題】 X光光電子能譜儀 (XPS) 具備極佳的表面靈敏度(探測深度約 1-10 nm),能提供元素組成與化學狀態資訊,是鑑定矽晶圓表面奈米級寄生氧化物 (native oxide) 最精準的分析工具。 【論述】

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