地特三等申論題
114年
[電子工程] 半導體工程
第 一 題
📝 此題為申論題,共 2 小題
小題 (一)
(一)請說明為何金氧半場效電晶體(MOSFET)的長通道與短通道元件之臨界電壓會有所不同。(8 分)
思路引導 VIP
考查「短通道效應」對臨界電壓(Vt)的影響。切入點應為「電荷共享模型」。思考:當通道長度變短時,源極與汲極的空乏區佔據了原本屬於閘極應該控制的通道區域,這會使得反轉通道更容易形成(Vt 降低)。建議作答時間 5 分鐘。
小題 (二)
(二)如何從汲/源極設計的角度來抑制短通道效應?並說明此方法可能導致的副作用。(12 分)
思路引導 VIP
針對前一題的短通道效應,如何從「源極與汲極(S/D)」的結構設計來改善?回想先進製程中常見的 S/D 工程,如:超淺接面(USJ)或暈環植入(Halo/Pocket Implant)。挑選一兩種詳述其抑制原理,並思考這種設計在電學特性上會帶來什麼負面影響(副作用,如寄生電阻增加)。建議作答時間 10 分鐘。