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高考申論題 112年 [電子工程] 半導體工程

第 一 題

📝 此題為申論題,共 2 小題

小題 (一)

請以數學表示式定義 p-n 接面之「內建電位(Vbi, built-in potential)」。(5分)

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看到這題,應直覺聯想到 p-n 接面達到熱平衡時,費米能階 (Fermi level) 必須對齊,導致能帶彎曲,其彎曲量即對應內建電位 Vbi。作答時除了精確寫出公式外,務必逐一條列解釋公式中所有物理符號(如熱電壓、摻雜濃度等)的意義,這是拿滿 5 分的關鍵。

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【解題思路】直接寫出熱平衡狀態下的內建電位公式,並詳細定義所有變數名稱。 【詳解】 熱平衡狀態下,p-n 接面的內建電位($V_{bi}$)數學表示式定義為:

小題 (二)

請繪出 p-n 接面其分別在逆向偏壓、順向偏壓之能帶圖(energy-band diagram),並說明其整流(rectification)特性。(10分)

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面對p-n接面能帶圖題型,首先聯想「費米能階(Fermi level)的相對移動」:順向偏壓時外加電場抵銷內建電場,位能障壁降低,n區能帶相對下降;逆向偏壓則相反,障壁升高。整流特性的解釋必須切入「多數載子擴散(指數增加)」與「少數載子漂移(極微小)」的物理機制差異。

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【破題】 p-n 接面的核心特性在於其非對稱的電流傳導能力(整流特性)。此特性源於外加偏壓對空乏區(Depletion Region)內建電位障壁(Built-in Potential Barrier)的調變,可由能帶圖清晰觀察。 【論述】

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