高考申論題
109年
[電子工程] 半導體工程
第 二 題
一矽晶棒摻雜砷原子10^16 atoms/cm^3,請分析室溫之電子與電洞載子濃度,並畫出能帶中之費米能階。Note:ni for Si is 9.65 x 10^9 /cm^3。(12分)
📝 此題為申論題
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看到本題,首先辨識出這是一道基礎的載子濃度與費米能階計算題。切入點有三:1. 判斷摻雜類型:砷(As)是第五族元素,摻入矽中屬於施體(Donor),因此是N型半導體。2. 計算載子濃度:在室溫(300K)下,施體完全游離,多數載子(電子)濃度 n ≈ Nd。再利用質量作用定律 (Mass action law) np = ni^2 算出少數載子(電洞)濃度 p。3. 定位費米能階(Ef)並作圖:利用公式 Ef - Ei = kTln(n/ni) 或 Ec - Ef = kT*ln(Nc/Nd) 算出費米能階的位置。作圖時要畫出導帶(Ec)、價帶(Ev)、本質費米能階(Ei),並明確標示 Ef 靠近 Ec。計算時要注意題目已提供 ni 的精確值,必須使用該數值。建議時間:約10分鐘完成計算與作圖。
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【考點分析】 本題考查N型半導體的摻雜特性、室溫下完全游離假設、質量作用定律的應用,以及費米能階的相對位置計算與能帶圖繪製。 【理論/法規依據】
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